电子行业动态跟踪：荷兰光刻机禁运细则落地，看好半导体设备国产化加速

核心观点
事件：3月8日，荷兰政府表示计划对半导体技术出口实施新的限制。
中国10nm及更成熟制程光刻机的进口并不受本次限制影响。ASML在3月8日的最新声明中指出，最新出口限制局限于7nm及以下制程，侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统，主要为DUV光刻机TWINSCANNXT：2000i和TWINSCANNXT：2050i两款产品，而未被禁运的NXT1980i等设备仍可支持最低至10nm的芯片生产。也就是说，荷兰实际实施的禁运措施比美国去年10月的芯片管制新规更加宽松（管制新规禁运美国14nm及以下设备）。
光刻机技术难度极高，ASML在光刻机领域一家独大。作为集成电路的核心设备之一，光刻机决定了集成电路的集成度，技术难度极高。精细至纳米级别的复杂系统与操作、超高良率和长时间稳定运行的要求共同构成了光刻机的技术壁垒。经历五代产品更迭，光刻机从最初的g-line发展到EUV光刻。ASML作为全球光刻机市场的龙头，其光刻技术拥有绝对领先优势，在EUV、ArFi和ArF领域市占率分别高达100%、96%和88%。目前，我国的光刻机仍处于产业化的起步阶段。
市场悲观预期筑底，国内资本开支及设备国产化率有超预期机会。下游晶圆厂资本开支方面，我们认为供应链安全为当前国内产业核心矛盾，国内成熟制程晶圆产能尚不足实现完全自给，即使在半导体行业景气度下行背景下，行业龙头中芯国际预计2023年资本开支与上一年基本持平，维持在60亿美元以上。同时，部分存储产线受益管制的边际放松和产品规划的调整资本开支有超市场预期机会，部分特殊产线亦有望快速推进。国产化率角度看，目前半导体设备整体国产化率整体仅15%左右，我们认为在新型举国体制背景下，下游晶圆厂有望加速导入国产设备，有以成本和良率换国产化率的可能，因此国产化率存在潜在超预期机会。整体来看，我们认为即使今年国内资本开支受到外部设备管制的负面影响，但国产化率的加速提升有望对冲掉资本开支下行的负面影响，半导体设备厂商依然有望在今年迎来加速式成长。
投资建议与投资标的
荷兰政府最新限制局限于7nm及以下制程，中国10nm及更成熟制程光刻机的进口不受本次限制影响。目前半导体设备行业空间广阔，我们看好国产化进程加速推进。建议关注国内半导体设备领先企业中微公司(688012，买入)、精测电子(300567，买入)、芯源微(688037，买入)、拓荆科技-U(688072，买入)、北方华创(002371，未评级)等。
风险提示
中美贸易摩擦升级风险；美荷进一步限制光刻机出口风险；国内半导体设备厂商发展不及预期。

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