半导体行业研究周报：荷兰对光刻机出口进一步限制，国产化亟待加速

在美国持续施压对华禁运关键半导体技术的情况下，荷兰政府正准备对半导体设备实施新的出口限制。当地时间3月8日，荷兰贸易部长列斯杰·施赖纳马赫尔（LiesjeSchreinemacher）在致立法者的一封信中表示，荷兰政府考虑了“技术发展和地缘政治背景”，准备对半导体设备实施新的出口限制，这些规定预计将在夏季之前公布。她在信中没有具体提及中国和荷兰半导体设备主要供应商ASML，但指出其中一项将受到影响的技术是“DUV”光刻技术。“出于国家和国际安全考虑，有必要尽快控制这项技术。”
ASML针对上述出口限制发布声明，表示额外的出口管制并不涉及所有浸没式光刻机，而只涉及所谓的“最先进的”设备。ASML提到，这些控制措施需要时间才能转化为立法并生效，公司预计这些措施不会对此前发布的2023年财务展望产生重大影响。ASML强调，额外的出口管制并不涉及所有浸没式光刻机，而只涉及所谓的“最先进的”设备。尽管ASML尚未收到有关“最先进”确切定义的更多细节，但ASML将其解释为“关键沉浸”（criticalimmersion），ASML将其定义为TWINSCANNXT：2000i和之后推出的浸没式系统。此外，ASML指出，制程位于成熟节点的客户仍旧可以使用不太先进的浸没式光刻机。
光刻机是制造芯片的核心装备，制造难度极大，国产光刻机仍较为落后。目前高端光刻机制造领域，全球只有少数几家公司能掌握，那就是荷兰的ASML，日本的尼康和佳能。中低端领域，国产光刻机龙头上海微电子（SMEE）能够触及。目前，上海微电子已经能实现90nm量产（600系列光刻机），正在攻克28nm光刻机，与ASML的技术实力仍有较大差距，国产光刻机亟待突破。
在光刻机国产化道路上，零部件也是不可忽视的重要环节。在光刻机零部件中，KBBF晶体主要用来制造深紫外激光器，而光刻机就是深紫外激光器的高端应用市场。2013年，我国研制的全球首个深紫外固态激光器通过验收，成为当时全球唯一能够制造实用化深紫外全固态激光器的国家，为国产DUV光刻机行业发展奠定坚实基础。而光学透镜则是保证光刻机高成像质量的关键组件，我国的茂莱光学的DUV光学透镜已经在给上海微电子供货，助力我国半导体光刻机国产化。
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